Новата инсталация, според производителя, е предназначена за печат на 5nm чипове и използва решение, различно от сложната литографска технология. Работата на FPA-1200NZ2C се основава на принципа на „наноотпечатваща литография“.
Вместо традиционна фотомаска, устройството използва нанорелефен печат. Последният е предназначен да образува маска от полимерен слой върху повърхността на полупроводникова подложка.
Устройството може да обработва силициеви пластини, което позволява производството на чипове, еквивалентни на 5nm технология. Canon твърди, че тази технология е по-екологична от масовите EUV „машини“ и е по-евтина.
Освен това компанията възнамерява да го подобри и развие, така че в бъдеще да може да служи за производството на 2nm чипове. Преди това производители като SK Hynix и Kioxia се опитаха да внедрят подобна технология, но не успяха.
Проведените тестове разкриха високо ниво на дефекти и по-нататъшното развитие беше изоставено. Все още не са обявени датите за началото на търговската експлоатация на новото оборудване на Canon.