Новата инсталация, според производителя, е предназначена за печат на 5nm чипове и използва решение, различно от сложната литографска технология. Работата на FPA-1200NZ2C се основава на принципа на „наноотпечатваща литография“.
Вместо традиционна фотомаска, устройството използва нанорелефен печат. Последният е предназначен да образува маска от полимерен слой върху повърхността на полупроводникова подложка.
Устройството може да обработва силициеви пластини, което позволява производството на чипове, еквивалентни на 5nm технология. Canon твърди, че тази технология е по-екологична от масовите EUV „машини“ и е по-евтина.
Освен това компанията възнамерява да го подобри и развие, така че в бъдеще да може да служи за производството на 2nm чипове. Преди това производители като SK Hynix и Kioxia се опитаха да внедрят подобна технология, но не успяха.
Проведените тестове разкриха високо ниво на дефекти и по-нататъшното развитие беше изоставено. Все още не са обявени датите за началото на търговската експлоатация на новото оборудване на Canon.
Напиши коментар:
КОМЕНТАРИ КЪМ СТАТИЯТА
1 чeстен ционист
18:02 16.10.2023
2 А някои държави
18:05 16.10.2023
3 Ко речи?
Коментиран от #4, #5, #7
18:07 16.10.2023
4 Според пресрелийза
До коментар #3 от "Ко речи?":
Според пресрелийза устройството печата маски върху подложката, която после се ецва или нараства както е при сегашната технология. Заменят оптичния литографски процес с контактен печат на нано ниво. Ако докарат рандемана на конвенционалната технология ще е много добре.18:29 16.10.2023
5 Ранбо
До коментар #3 от "Ко речи?":
Дай си адреса!19:09 16.10.2023
6 е това е удар
19:22 16.10.2023
7 Тома Неверни
До коментар #3 от "Ко речи?":
Да. Прав си, така е. Заглавието е подвеждащо. Наистина "фото"-то отпада, но литографията си остава. Освен това, най-вероятно "наноподложката" пак е правена с фотолитография. От статийката не става много ясно.20:27 16.10.2023